微纳加工技术不仅对设备和加工条件要求很高，同时也对加工能力有着很高的要求，此外一些非常规的微纳器件加工长期被国外垄断，造成相关产业的发展一直受制于人。我们立足于打破国外技术封锁和实现国内技术创新，现有设备和加工条件可以满足 DOE类、GPOE类、ROE类、MLA类产品的定制需求。可根据客户需求并选用以上工艺路线加工出以下微纳器件：环形光整形器、涡旋波片、匀化器件、微透镜、激光扩散片、液晶元器件、超构表面等。

 

GPOE 类定制产品概述

GOPE类定制器件使用飞秒激光在石英中制备出具有双折射特性的纳米结构。通过控制直写参数，特别是直写光束的偏振方位角，可以实现对双折射的操纵。

 

主要应用场景

· 高阈值环形光整形器、高阈值点环光整形器、高阈值可调点环光整形器

· 高阈值涡旋波片、高阈值完美涡旋波片

· 高阈值平顶光整形器、高阈值聚焦型平顶光整形器

 

产品特点

· 高透过率：基底选用石英，透过率高；在近红外波段，未镀膜透过率可达90%，镀膜后可达到99%

· 适用波段广：紫外波段/可见光波段/近红外波段

· 定制化能力强：结构区域大小可定制；器件类型可定制，包含 S-波片、平板锥透镜、完美涡旋光产生器等多种器件

· 损伤阈值高：极高的损伤阈值，损伤阈值可达 70J / cm²（@1064nm，6ns）

· 转化效率高：转化效率可达到94%

· 易集成：可根据集成需求选用不同形状大小的石英基片制作器件